日本の装置メーカー、ASMLのEUVフォトリソグラフィよりはるかに低コストで5nm以上の高解像度を主張 Scott Foster Asia Times November 7, 2023キヤノンは、5nmのEUVフォトリソグラフィーと同等の回路パターンを転写できる新しいナノインプリント露光装置を発表した。さらに、マスク技術の向上が見込まれれば、2nm相当の回路パターンの転写も可能になるとしている。これが経済的に実現すれば、アップル、エヌビディア、インテルが設計した最先端の集積回路(IC)を製造する台湾積体電路製造(TSMC)が使用しているEUV(極端紫外線)フォトリソグラフィ装置を独占しているA…